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實驗室用高壓反應釜

描述:爆破片改為比例卸荷閥,采用直角高壓針閥,閥門開口垂直于釜蓋,液體取樣殘留少,標配比例卸荷閥,壓力泄放可以重復使用,泄放壓力可調,冷卻塔設計,保證關鍵部件在高溫使用情況下無超溫之憂,保證配件使用壽命。上海巖征儀器,專業生產各種實驗室設備、實驗室用高壓反應釜、全自動反應釜等,歡迎前來咨詢。

  • 廠商性質

    生產廠家
  • 更新時間

    2023-11-02
  • 訪問量

    2419
詳細介紹
品牌其他品牌產地類別國產

 

巖征儀器 實驗室用高壓反應釜是由:特制光源,不銹鋼釜體以及控制系統組成。用于新能源,環境、新藥研發領域的高溫高壓光化學催化、合成、降解的中試及放大生產。

巖征儀器 實驗室用高壓反應釜技術特點:

1、光源可按照客戶要求選擇,采用LCD10.1英吋液晶觸摸控制器,光源光電參數及光化學反應的溫度,攪拌等參數實時數字顯示在屏幕上。

2、光源與釜體連接部分采用技術保證耐壓氣密性,國內*。

3、更專業的光化學釜體生產工藝:釜體包含壓力表、防爆裝置、進氣閥門、取樣閥門,溫度測溫探桿,耐壓光源插入口等,在保證您的生產安全前提下更方便您的操作。

4、采用浸入式光源設計,物料與光源充分接觸,光化學反應釜配備大功率攪拌電機帶動錨式攪拌槳,讓物料能均勻吸收光子能量。

巖征儀器 光化學配置表

型號YZ-GHX-HP系列
光源類型低壓汞燈,高壓汞燈,氙氣燈,鈉燈,led燈,準分子燈
光源冷卻形式強制水冷,采用強制導流夾套式光源冷阱
容積5-500L
設計參數設計壓力1mpa,設計溫度:250℃
攪拌設計采用磁力耦合機械式攪拌,零泄漏,攪拌轉速:0-750轉/分
控制系統一體式控制機柜,上部控制光源,下部分控制反應釜溫度,攪拌
光源冷卻設備大功率激光冷水機,給光源及冷凝回流提供降溫保證
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